oprd案例

Heck偶联：机理、杂质和OPRD案例汇总

Heck反应机理氧化加成（oxidative addition）: R1X (R1为烯基或芳基，X=I > TfO > Br >> Cl)与Pd 0L n的加成，形成二价钯配合物中间体迁移插入（migratory-insertion）：烯键插入Pd-R1键的